Equipo de laboratorio 5n/6n 99,999% Materiales de recubrimiento óptico de alta pureza de Si

Equipo de laboratorio 5n/6n 99,999% Si de alta pureza Materiales de recubrimiento óptico de pulverización de silicio

Los objetivos de pulverización de silicio son un tipo de material utilizado en el proceso de pulverización, que se utiliza para depositar películas delgadas de materiales en un sustrato.La pulverización es un proceso en el que los átomos del material objetivo son expulsados y depositados en un sustrato, creando una película delgada.

Los objetivos de pulverización de silicio están hechos de silicio de alta pureza y se utilizan en una variedad de aplicaciones, incluida la fabricación de semiconductores, la producción de células solares y la microelectrónica.Algunas de las características y aplicaciones de los objetivos de pulverización de silicio incluyen:

Alta pureza: los objetivos de pulverización de silicio están hechos de silicio de alta pureza, lo que los hace adecuados para aplicaciones de semiconductores y microelectrónica.

Buena conductividad térmica: El silicio tiene una buena conductividad térmica, lo que lo hace útil para aplicaciones que requieren una disipación de calor eficiente.

Bajo rendimiento de pulverización: El silicio tiene un bajo rendimiento de pulverización, lo que lo convierte en una buena opción para aplicaciones que requieren un control preciso del grosor de la película.

Alto punto de fusión: El silicio tiene un alto punto de fusión, lo que lo convierte en una opción ideal para aplicaciones que requieren resistencia a altas temperaturas.

Propiedades fotoeléctricas: El silicio tiene propiedades fotoeléctricas, lo que lo convierte en una opción popular para la producción de células solares.

En general, los objetivos de pulverización de silicio son un material de alta calidad que es adecuado para una amplia gama de aplicaciones que requieren un material altamente estable, térmicamente conductor y fotoeléctrico.